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國產(chǎn) “光刻廠” 落地？官方正式回應(yīng)！
近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學(xué)EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化，并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。
對此，中國電子工程設(shè)計院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發(fā)聲，稱該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。
北京高能同步輻射光源項目實拍圖
HEPS是干嘛用的呢？它的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV，然后注入周長1360米的儲存環(huán)，用接近光速的速度保持運轉(zhuǎn)。電子束在儲存環(huán)的不同位置通過彎轉(zhuǎn)磁鐵或者各種插入件時就會沿著偏轉(zhuǎn)軌道切線的方向，釋放出穩(wěn)定、高能量、高亮度的光，也就是同步輻射光。
中國電子院解釋稱，HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機，它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進(jìn)行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS是進(jìn)行科學(xué)實驗的大科學(xué)裝置，并不是網(wǎng)傳的光刻機工廠。
中國電子院稱，該項目由全國勘察設(shè)計大師、國投集團(tuán)首席科學(xué)家婁宇帶隊，中國電子院多個技術(shù)科研和設(shè)計團(tuán)隊協(xié)同合作，從項目可研立項到項目落地攻克了多項技術(shù)和工藝難關(guān)。目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工。
“光刻廠”還能實現(xiàn)嗎？
大家都知道光刻機是通過特定光線照射在涂有光刻膠的晶圓上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，實現(xiàn)將設(shè)計好的電路打印在芯片上。
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